产品介绍
陶瓷靶材可针对需求进行定制开发，陶瓷靶材具有高分散流动性好、比表活性高的特点，陶瓷靶材匹配各类烧结、热压、流延等工艺，是高端溅射镀膜领域不可或缺的核心定制化靶材，适配多行业高端靶材应用需求。
我司陶瓷靶材主要产品包括：氧化铟、氧化铟锡、氧化锌铝、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化钛等，陶瓷靶材全面覆盖多领域定制化需求，彰显陶瓷靶材的多功能适配优势，满足不同工艺、不同场景的高端靶材使用需求。
高纯陶瓷靶材的优异特性
超高纯度
陶瓷靶材的杂质金属、离子和碳含量极低，陶瓷靶材保证材料性能稳定可靠，满足半导体、光学等高端领域的严苛要求，彰显陶瓷靶材的高品质核心优势，保障终端镀膜产品性能稳定。
粒径均匀可控
陶瓷靶材可实现纳米级或微米级粒径控制，且粒径分布窄，陶瓷靶材利于烧结致密化和性能一致性，提升陶瓷靶材后续加工效率，适配精细化、标准化生产工艺需求。
高比表面积
陶瓷靶材具有高比表面积，陶瓷靶材可提高烧结活性，陶瓷靶材降低烧结温度，陶瓷靶材节省能耗，凸显陶瓷靶材的节能优势，适配各类烧结工艺需求。
良好分散性
陶瓷靶材表面经过特殊处理，陶瓷靶材易于在有机/水性体系中均匀分散，陶瓷靶材适合涂覆、注塑或成型，保障陶瓷靶材加工过程顺畅，提升加工质量与一致性。
高纯陶瓷靶材的广泛应用
陶瓷靶材有 氧化铟、氧化铟锡、氧化锌铝、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化钛等
技术特性
应用场景
氧化铟锡
氧化钛
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