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名称：氧化铟锡靶材(ITO)中文名：氧化铟锡靶材(ITO)成型工艺：烧结纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：触摸屏技术、液晶显示器、光伏行业、有机发光二极管（OLEDs）查看详情
名称：氧化镍靶材(Niox)中文名：氧化镍靶材(Niox)成型工艺：烧结纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材、异形靶材应用场景：光伏行业、半导体制造、透明导电膜查看详情
名称：氧化钛靶材(TiOx）中文名：氧化钛靶材(TiOx）成型工艺：喷涂、烧结纯度：99.9%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：光学器件制造、光伏行业、半导体制造、低辐射（Low-E）节能玻璃查看详情
名称：氧化铝靶材(Al₂O₃）中文名：氧化铝靶材(Al₂O₃）成型工艺：烧结纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：半导体制造、光学器件制造、新能源领域、显示面板查看详情
