碳化铬靶材(CrC)

CrC target

众诚达

陶瓷靶材

碳化铬靶材(CrC)

膜层硬度高
高沉积速率

产品介绍

碳化铬(CrC)是由铬(Cr)与碳(C)元素形成的化合物,兼具金属的导电特性与陶瓷的高硬度特性。以高纯碳化铬粉末为原料,经热压烧结或喷涂等工艺制成的碳化铬靶材,具有高熔点、高强度和优异的热稳定性,是高端镀膜工艺的核心耗材。
在磁控溅射和物理气相沉积(PVD)等镀膜工艺中,碳化铬靶材可实现高沉积速率,制备出致密、均匀且附着力强的膜层。碳化铬靶材的镀膜硬度高、耐磨性和耐腐蚀性突出,能有效提升基材表面的使用寿命与性能稳定性,彰显碳化铬靶材的核心优势。
凭借优异的综合性能,碳化铬靶材广泛应用于高端制造、航空航天、电子等领域,成为多行业高端涂层制备的优选材料。


碳化铬(CrC)的优异特性

  • 硬耐磨,薄膜防护性能卓越

    碳化铬靶材属于超硬材料范畴,耐磨性是普通金属薄膜(如 Cr、Ni)的 5-10 倍,用于刀具、模具、机械零件涂层时,可显著提升部件抗磨损、抗咬合能力,延长使用寿命 3-5 倍,适配高速切削、干式摩擦等极端磨损场景,充分发挥碳化铬靶材的防护价值。

  • 耐高温抗氧化,适应严苛环境

    碳化铬靶材具有优异的抗氧化性,可耐受高温燃气、熔融金属、热辐射等严苛环境,解决传统材料高温氧化、腐蚀失效的痛点,适配航空航天等高端领域的严苛使用需求

  • 化学稳定性极强,抗腐蚀能力突出

    碳化铬靶材具有良好耐受性,不与多数金属、非金属发生化学反应,不易发生氧化、锈蚀或降解,进一步提升碳化铬靶材的使用寿命和应用可靠性。

  • 溅射性能稳定,薄膜质量优异

    碳化铬靶材具备高沉积速率:常规射频溅射参数下,沉积速率达 50-150 nm/h(高端 SPS 碳化铬靶材可达 120-200 nm/h),高于同类陶瓷靶材,适配批量工业化生产,凸显碳化铬靶材的生产优势。

碳化铬(CrC)的广泛应用

  1. 硬质合金刀具涂层

    碳化铬靶材用于刀具涂层,可使刀具寿命延长 3-5 倍,降低切削力 30% 以上,可承受 800-1000℃切削温度,适配自动化生产线的高效加工(如汽车零部件批量切削、航空结构件精密加工),助力刀具行业升级。

  2. 航空发动机零部件涂层

    具体应用:涡轮叶片、燃烧室、导向叶片、涡轮盘、燃油喷嘴等高温部件,碳化铬靶材可抵御高温燃气冲刷、热腐蚀和磨损,提升发动机热效率和可靠性,延长零部件使用寿命 2-3 倍,降低航空运维成本,是航空航天领域的核心镀膜材料。

  3. 半导体封装与防护涂层

    碳化铬靶材可保护芯片免受湿气、灰尘、化学腐蚀和机械划伤,保障器件电学性能稳定,提升半导体产品良率,适配半导体高端封装的严苛要求。

  4. 油气输送与化工设备涂层

    碳化铬靶材可解决管道 / 设备腐蚀、磨损问题,延长使用寿命 5-10 年,降低泄漏风险(尤其适用于深海油气开采、高腐蚀化工介质传输),为油气和化工行业提供可靠的防护解决方案。


技术特性

  • 纯度

    纯度

    99.9%

  • 致密度

    致密度

    ≥98%

应用场景

  • 硬质涂层与功能镀膜

    硬质涂层与功能镀膜

  • 航空航天

    航空航天

  • 半导体制造

    半导体制造

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