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铟(In)靶材

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  • 技术参数
铟旋转靶采用铸造工艺,尺寸根据客户要求定制。          
铟平面靶采用铸造工艺,尺寸可根据客户要求加工。
纯度:99.995%
应用领域:薄膜太阳能工业,光学镀膜工业,工具及装饰镀膜工业。