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钛(Ti)靶材

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  • 技术参数

钛旋转靶采用真空熔炼工艺,尺寸根据客户要求定制。

钛平面靶采用真空熔炼工艺,尺寸可根据客户要求加工。

纯度:99.7-99.999%
应用领域:薄膜太阳能工业,节能玻璃工业,光学镀膜工业,半导体工业,工具及装饰镀膜工业。