硅旋转靶采用等离子喷涂或者烧结绑定工艺，尺寸根据客户要求定制。
硅平面靶采用拉晶生长工艺，尺寸可根据客户要求加工。
纯度：99.9-99.999%应用领域：薄膜太阳能工业，低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，半导体工业，工具及装饰镀膜工业。
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